(1)低碳鋼鍍層厚度在10μm左右,在鍍鉻液中,陽極處理時(shí)間0.5~lmin;若鍍層厚度在20μm以上,在鍍鉻液中,陽極處理時(shí)間1~2min;用大電流沖擊后轉(zhuǎn)入正常電鍍。
(2)中碳鋼在鍍鉻液中,陽極處理時(shí)間小于0.5min,用大電流沖擊后轉(zhuǎn)入正常電鍍。
(3)高碳鋼在鍍鉻液中,陽極處理時(shí)間為3~5s,也可不進(jìn)行陽極處理,用高于正常電流密度短時(shí)間沖擊,然后轉(zhuǎn)入正常電鍍。
(4)鑄鐵。一般不進(jìn)行陽極處理,特殊情況下進(jìn)行陽極處理時(shí)不能超過10~30s,然后用大電流密度沖擊,然后轉(zhuǎn)入正常電鍍。
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